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1.標樣和試樣中的含量和化學組成不完全相同時,可能引起基體線和分析線的強度改變,從而引入誤差。
2.標樣和試樣的物理性能不完全相同時,激發(fā)的特征譜線會有差別從而產(chǎn)生系統(tǒng)誤差。
3.澆注狀態(tài)的鋼樣與經(jīng)過退火、淬火、回火、熱軋、鍛壓狀態(tài)的鋼樣金屬組織結構不相同時,測出的數(shù)據(jù)會有所差別。
4.未知元素譜線的重疊干擾。如熔煉過程中加入脫氧劑、除硫磷劑時,混入未知合金元素而引入系統(tǒng)誤差。
5.要消除系統(tǒng)誤差,必須嚴格按照標準樣品制備規(guī)定要求。為了檢查系統(tǒng)誤差,就需要采用化學分析方法分析多次校對結果。
二、偶然誤差的來源
與樣品成分不均勻有關的誤差。因為光電光譜分析所消耗的樣品很少,樣品中元素分布的不均勻性、組織結構的不均勻性,導致不同部位的分析結果不同而產(chǎn)生偶然誤差。主要原因如下:
1.熔煉過程中帶入夾雜物,產(chǎn)生的偏析等造成樣品元素分布不均。
2.試樣的缺陷、氣孔、裂紋、砂眼等。
3.磨樣紋路交叉、試樣研磨過熱、試樣磨面放置時間太長和壓上指紋等因素。
4.要減少偶然誤差,就要精心取樣,消除試樣的不均勻性及試樣的鑄造缺陷,也可以重復多次分析來降低分析誤差。
三、其他因素誤差
1.氬氣不純。當氬氣中含有氧和水蒸氣時,會使激發(fā)斑點變壞。如果氬氣管道與電極架有污染物排不出去,分析結果會變差。
2.室內(nèi)溫度的升高會增加光電倍增管的暗電流,降低信噪比。濕度大容易導致高壓元件發(fā)生漏電、放電現(xiàn)象,使分析結果不穩(wěn)定。
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